廢氣凈化塔的適用范圍：

電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔

漆噴涂、涂裝生產等行業及領域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進入凈化塔。在風扇的動態作用下，它快速地填充進氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質與液相中的堿性（或酸性）物質發生反應，反應物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續上升到階段的噴霧。

適用于電鍍生產廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產等行業和領域。

　　煙氣脫硫的及裝置雖然日臻完善，但在大多數，尤其是在能源結構中煤炭占較大比例的中，其推廣和普及卻舉步唯艱，拿來說，20年來花巨資引進的和裝置難以推廣，巨額的和高昂的運行費用使企業背上了沉重的負擔，難以承受。　　企業概況：經過十多年艱苦創業和自我積累、自我發展，現已具有相當雄厚的經濟實力和力量。現已擁有資產總值逾億元，占地面積1萬余方米，建筑面積六千余方米，員工350多名，擁有的研究設計院。與多家高校和行業設計院結成產學研聯盟，力量雄厚，是國內化、標準化的環保骨干企業，也是及定點生產企業及全國環保企業。

　　遵守電工作業一般規定，并由機械設備操作人員或檢修人員配合。2、調試光氧廢氣處理裝置，應穿戴防護用品，安全防護裝置，以防止紫外線傷皮膚和眼睛。3、光氧廢氣處理裝置必要做水面，放置好裝置后可靠接地線；接用臨時電源時，應遵守臨時接線規程要求。　　那么在選擇安裝廢氣煙塵處理的除塵裝置時，要需要考慮哪些因素呢首先我們依然來看一看除塵裝置的性能評價要點這也是我們客戶在選購除塵器設備的時候著重考慮的六個方面，是哪六個方面呢是看看該設備的廢氣處理量。　　1、低溫等離子光氧催化在VOCs廢氣處理設備【廢氣處理工藝流程圖】低溫等離子體處理污染物的原理為在外加電場的作用下，介質放電產生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發;然后引發一系列復雜的物理。

　　活性炭吸附和催化凈化裝置的廢氣處理工作原理是：當廢氣進入凈化裝置后，由于截面急劇增大，風速下降，大顆粒在重力作用下得到沉降;含塵氣體在運行過程中，受到漆霧過濾箱內的多層纖維層的阻攔，沉降下來，因此顆粒?。　　又借助池內彈性填料上附著的好氧微生物的氧化代謝作用，分解廢水中的有機污染物，從而降低其BOD5、CODcr、等污染物指標。氧化池自流入沉淀池，沉淀的污泥適當經氣提打入污泥池消化處理，沉淀池的污水主要進行泥水分離后再流入后續清水消池達標排放。　　以各項氧化劑之性能而言，次便宜，效果亦不錯，故常使用。在溶液中之次系以次氯酸(HOCl)形式存在:NaOCl+H2O→HOCl+NaOH......在pH=7.5，次氯酸鹽溶液之有效氯以50%HOCI和次氯酸根離子(OCl-)存在。在pH=l0，只有0.3%有效氯以HOCl存在;在pH=l1或12，HOCl幾乎解離成無用之次氯酸根離子，因此pH值控制很重要。　　光氧催化廢氣處理原理光催化氧化利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、等難降解物質。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應，使H2O2分解產生自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除。