3月20日，2024中國國際半導體展覽會(semicon china)在上海開幕，中國電科集中展示集成電路、化合物半導體、微系統等領域設備和工藝整體解決方案，展現集團公司瞄準集成電路高端裝備制造新工藝、新設備、新材料奮勇攻堅，取得的最新實踐和成果。
在集成電路裝備領域，展示了離子注入機、濕法清洗、立式爐、減薄劃切等關鍵核心設備。其中，中束流、大束流、高能機及特種應用離子注入機已實現全系列國產化，達到28nm工藝制程全覆蓋;清洗設備具備半導體清洗、濕法腐蝕、電鍍ecd和剝離等多種濕法工藝;立式爐形成氧化、擴散、退火、合金、低壓化學氣相沉積等系列產品;減薄、劃切等封裝設備為國內知名頭部企業持續大量供貨。
在化合物半導體裝備領域，展示了覆蓋晶體生長、材料加工、外延生長、高溫注入、封裝組裝、檢測測試等全工藝段，40余種核心設備研發及產業化能力，彰顯國內唯一化合物半導體成套裝備解決方案能力提供商的能力水平。
在微系統領域，展示了成體系布局pvd、ecd、高精度倒裝焊接、晶圓臨時鍵合及解鍵合、晶圓永久鍵合等離子清洗等系列關鍵核心裝備，瞄準“核心突破、局部成套、系統集成”方向，全力打造微系統制造全產線系統集成服務的實踐成果。
在半導體材料領域，展示了硅基氮化鎵外延、碳化硅單晶襯底、碳化硅外延、硅外延等多款產品，碳化硅單晶襯底、碳化硅外延和硅外延制造水平國內領先。
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