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蒸騰鍍膜與濺射鍍膜的差異
蒸騰鍍膜和濺射鍍膜各有長處,大概依具商品和技術來決議運用哪種。
通常:蒸騰鍍膜速率快,重復性相對較差,薄膜的附著力相對較低,資料使用率高
濺射鍍膜成膜速率相對慢,重復性好。薄膜的附著力大,資料使用率相對低
中頻磁控濺射的基本原理:使用磁場與電子交互效果,使電子在靶外表進行螺旋狀運轉,然后增大電子碰擊氬氣發生離子的概率,所發生的離子在電場效果下碰擊靶面,然后濺射出靶材。
選用中頻濺射的長處是可得到潤滑細密,膜層硬度高,膜厚可線性增加,不中毒,溫升平緩,但設備的需求較高,作業壓強範圍很窄,各種操控需求疾速精準.
多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使資料離子化(帶正電顆粒),然后高速擊向基片(負電)并堆積,構成細密膜堅固膜。首要用于耐磨耐蝕膜。其缺陷是正負電撞形成膜層不均勻,空穴、燒蝕。
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