產品詳情
ASML P/N:6107-0900-3702
ASML P/N:6107-0900-3702參數詳解：半導體光刻機的核心組件解析
1. 產品概述
ASML P/N 6107-0900-3702 是荷蘭半導體設備制造商 ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography）旗下的一款關鍵組件，主要用于其極紫外（EUV）光刻機系統。該部件屬于精密光學模塊系列，負責光刻過程中的光束調控與校準，是確保芯片制造精度（如 7nm、5nm 及以下工藝節點）的核心組件之一。
2. 技術參數（參考值）
● 光學性能
○ 波長范圍：13.5 nm（EUV 光源）
○ 反射率：≥99.9%（特定涂層工藝）
○ 表面平整度：≤0.1 nm（Ra值）
● 機械特性
○ 尺寸：約 320mm × 260mm × 150mm（實際尺寸依版本而異）
○ 重量：約 25 kg（含冷卻系統模塊）
○ 工作溫度：-20°C 至 +50°C（極端環境需定制冷卻方案）
● 電氣接口
○ 通信協議：ASML專有高速光纖接口（兼容最新 TWINSCAN 系統）
○ 功耗：峰值功率 ≤ 150 W（待機模式 ≤ 5 W）
3. 應用領域與優勢
● 芯片制造：用于先進邏輯芯片（如CPU、GPU）及存儲器（DRAM、3D NAND）的光刻工藝，支持高分辨率圖案轉移。
● 高精度校準：通過其亞納米級光學調控能力，降低芯片制造過程中的線寬誤差（CDU ≤ 1.5 nm）。
● 穩定性：采用抗熱膨脹材料與閉環溫控設計，適應24/7連續生產環境。
4. 使用注意事項
● 維護要求：需定期校準（建議每6個月進行一次），使用ASML認證維護工具。
● 環境限制：避免強磁場干擾（距離≥5米），濕度控制在 20%-40% RH。
● 兼容性：僅適配ASML最新一代EUV系統（如TWINSCAN NXE:3800E及以上型號）。
5. 市場價值與供應鏈
作為ASML EUV設備的關鍵組件，6107-0900-3702 直接影響芯片廠的產能與良率。目前該部件僅通過ASML官方渠道供應，常需提前12-18個月排期，是半導體產業鏈上游的核心技術壁壘之一。
結語
ASML P/N 6107-0900-3702 參數體現了極紫外光刻技術的精密工程極限，其光學與機械性能是推動摩爾定律延續的關鍵要素。如需準確參數或采購支持，建議聯系ASML官方渠道獲取最新文檔。
ASML P/N:6107-0900-3702
