產品詳情
全自動 RTR 無縫曝光機是 IC 半導體、FPC、PCB、金屬蝕刻制造的核心設備,憑借先進技術與多元功能,助力企業實現高效生產。
設備具備雙面對位與雙面曝光能力,搭配雙層平臺,可交替曝光兩塊基板,大幅提升生產效率。獨有的拉料糾偏控制系統,通過實時監測與動態調整,確保基板傳輸精準,避免曝光失真。它兼容膠片與玻璃菲林,支持干膜、濕膜及非接觸真空模式,一鍵切換滿足不同工藝需求,有效減少膜材損傷,提升良率。
該曝光機適用單面軟板無縫作業、沖孔板濕膜作業等多種場景,適配 320×420mm、320×500mm、500×500mm 等多尺寸基板,覆蓋不同生產需求。高解析度 UVLED 光源,光強均勻性超 95%,解析度達 20μm 以下,助力實現細線路曝光,且能耗低、壽命長。上下框可抽出式清潔設計,方便快捷,顯著縮短維護時間。
無論是半導體封裝的精密線路制作,還是 FPC、PCB 的高效生產,全自動 RTR 無縫曝光機都能以卓越性能,為您的制造工藝保駕護航,賦能企業提升競爭力。
可根據客戶需求定制方案,具體要求面議



