產品詳情
新柯隆濺射機RAS-1100c的規格參數可能因具體型號和配置而有所差異，但通常包括以下幾個方面：
聯系：韋小姐 17687705997
設備類型：高性能濺射沉積系統
型號：RAS-1100C
生產廠家：新科隆
二、濺射源規格
濺射源類型：磁控濺射源（可能包含射頻濺射源等其他類型）
靶材尺寸：通常支持多種尺寸的靶材，具體尺寸需根據設備配置確定（例如，某些應用中可能使用45.6cm×12.7cm×0.5cm的靶材）
濺射功率范圍：0-3000W（具體功率可能根據實際應用需求進行調整）
三、真空系統規格
真空度：通常可達到≤10^-6Pa的高真空度，以確保濺射過程的順利進行和薄膜質量
真空泵類型：可能包括機械泵、擴散泵、分子泵等，具體配置需根據設備型號確定
四、沉積室規格
沉積室尺寸：足夠容納所需尺寸的樣品和濺射源
樣品臺規格：可支持多種尺寸的樣品放置，并可實現樣品的旋轉和移動以優化沉積效果
五、控制系統規格
控制方式：計算機和觸摸屏控制，實現自動化操作
控制參數：包括濺射功率、射頻頻率、工作氣壓、溫度、沉積時間等，可根據實際需求進行精確設置和調整
六、其他規格
電源要求：根據設備配置和實際應用需求確定具體的電源要求（如電壓、電流、頻率等）
輔助設備：可能包括加熱器、冷卻器、氣體控制系統等，以提供濺射過程中所需的輔助條件
設備尺寸和重量：具體尺寸和重量需根據設備型號和配置確定
七、性能特點
高性能：采用先進的濺射技術，能夠制備高質量、高均勻性的薄膜
高穩定性：系統結構設計合理，運行穩定可靠
自動化程度高：控制系統先進，操作簡便，易于學習和使用
多功能性：適用于多種材料的薄膜沉積，滿足不同客戶的需求
請注意，以上規格參數僅供參考，具體參數可能因設備型號、配置以及生產廠家的不同而有所差異。如需獲取準確的規格參數，請直接聯系新科隆或相關設備供應商進行咨詢。
新科隆濺射機RAS-1100c是一款高性能的濺射沉積設備，其應用廣泛，包括但不限于以下幾個方面：
一、半導體領域
在半導體制造過程中，新科隆濺射機RAS-1100c可用于制備各種薄膜材料，如金屬薄膜、合金薄膜、氧化物薄膜和氮化物薄膜等。這些薄膜在半導體器件中起著至關重要的作用，如作為導電層、絕緣層、保護層或功能層等。
二、光學領域
在光學領域，新科隆濺射機RAS-1100c可用于制備光學薄膜，如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜在光學器件中具有重要的應用價值，如提高光學器件的透光性、反射性或濾光性能等。
三、磁學領域
在磁學領域，新科隆濺射機RAS-1100c可用于制備磁性薄膜材料，如鐵磁薄膜、亞鐵磁薄膜等。這些薄膜在磁記錄、磁存儲和磁傳感器等器件中具有廣泛的應用前景。
四、能源領域
在能源領域，新科隆濺射機RAS-1100c可用于制備太陽能電池板上的薄膜材料，如透明導電薄膜、減反射薄膜等。這些薄膜有助于提高太陽能電池的光電轉換效率和穩定性。
五、其他領域
此外，新科隆濺射機RAS-1100c還可用于制備各種功能薄膜材料，如超導薄膜、生物醫用薄膜等。這些薄膜在超導材料、生物醫學工程等領域具有潛在的應用價值。
