產品詳情
氧化亞硅爐是一款適用于工礦企業、科研院所做實驗、中試、產業化生產使用，其主要針對針對碳材料(活性炭、石墨烯、碳納米管)，鋰離子電池正負極材料，稀土功能材料，金屬結構材料等新興材料專用外熱式回轉爐。具有良好的密封措施和爐膛負壓，爐內溫度可達1400℃。
該設備為咸陽鴻峰窯爐設備有限公司開發的，專業應用于硅碳原材料一氧化硅制備的設備。
該設備主要應用于氣相法（CVD法）制備氧化亞硅
該設備溫控精度1度。
該設備溫度控制2000度以內。
該設備升溫速率快。
該設備可以可以在10-3的真空度下保持穩定
該設備產量大
該設備能耗低
該設備經過業內驗證，做出的材料品質良好
設備參數
1 名稱 HF-RS-A（氧化亞硅專用升華爐）
2 爐型 臥室
3 設備組成 升華系統、加熱系統、溫控系統、真空系統、機械系統、冷卻系統
4 升華系統由燒結區和收集區組成。 收集倉的材質由客戶
5 溫控系統采用 PLC 觸屏控制方式
6 加熱系統該設備采用電阻絲加熱
7 真空系統真空泵真空閥門及管路組成
8 機械部分區外殼采用 304 不銹鋼制作
9 冷卻系統 該設備配置兩段的冷卻系統
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (終以設計尺寸為主)
