產品詳情
◇磁場大小可以調節
◇等離子體密度高
◇沉積效率高
◇涂層結合力強
◇模塊化設計，安裝拆卸簡單方便
◇靶材使用率高，成本降低
◇量身定做個性化方案和設備
◇可鍍制TiN、TiCN、TiCrN、TiAlCrN、TiAlN、 AlTiCN、CrN、ZrN、a-C:H:W/a-C:H
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D100電磁弧鍍膜設備 NH-ARC系列 |
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NH-ARC850TES |
NH-ARC1000TES |
NH-ARC1100TES |
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真空室尺寸 |
D850X900 |
D1000X1100 |
D1100X1200 |
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均勻可鍍區 |
D500XH500 |
D650XH650 |
D780XH780 |
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極限真空度 |
3.0*E-4Pa |
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壓升率 |
0.1Pa/hr |
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轉架形式 |
標配兩套轉架系統+周轉小車 采用整進整出形式 |
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沉積裝置 |
D100永磁+線圈電弧 |
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離子輔助裝置 |
N-IGET弧離子刻蝕 |
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真空檢測 |
復合真空計+薄膜真空規 |
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加熱系統 |
500℃，3根熱電偶監測 |
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控制系統 |
觸摸式 手動 全自動 帶自動暖機 智能無人值守關機聯動系統 |
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冷卻水循環系統 |
配日本SMC水流開關，智能控制 IPC+PLC全自動控制 |
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生產運行周期 |
涂層(3um),5-6小時/爐 |
涂層(3um), 6-8小時/爐 |
涂層(3um), 6-8小時/爐 |
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極限載重 |
300KG |
500KG |
800KG |
